¼¼Æ÷·À¯ÀüÀÚÄ¡·áÁ¦ À§Å¹°³¹ß»ý»ê(CDMO) ¹× ½Å¾à °³¹ß Àü¹®±â¾÷ ÀÌ¿£¼¿(´ëÇ¥ÀÌ»ç ÀåÁ¾¿í)ÀÌ 11ÀÏ Çѱ¹°Å·¡¼Ò ÄÚ½º´Ú½ÃÀ庻ºÎ·ÎºÎÅÍ »óÀå ¿¹ºñ ½É»ç¸¦ Åë°úÇß´Ù.
ÀÌ¿£¼¿Àº °¡±î¿î ½ÃÀÏ ³» ±ÝÀ¶À§¿øȸ¿¡ Áõ±Ç½Å°í¼¸¦ Á¦ÃâÇÏ°í, º»°ÝÀûÀÎ °ø¸ð ÀýÂ÷¿¡ µ¹ÀÔÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù. ´ëÇ¥ÁÖ°üȸ»ç´Â NHÅõÀÚÁõ±ÇÀÌ´Ù. ÀÌ¿£¼¿Àº ±â¼úƯ·Ê»óÀåÀ» À§ÇÑ ±â¼ú¼º Æò°¡¿¡¼ Çѱ¹°Å·¡¼Ò°¡ ÁöÁ¤ÇÑ ±â¼úº¸Áõ±â±Ý°ú ÀÌÅ©·¹´õºí·ÎºÎÅÍ °¢°¢ Aµî±ÞÀ» ȹµæÇÑ ¹Ù ÀÖ´Ù.
ÀÌ¿£¼¿Àº ±Û·Î¹ú ¼öÁØÀÇ GMP(¿ì¼öÀǾàÇ° Á¦Á¶ °ü¸® ±âÁØ) ½Ã¼³ ¿î¿µ ½Ã½ºÅÛ°ú Ç°Áú ¹× Á¦Á¶ °ü¸® Çٽɱâ¼úÀ» ¹ÙÅÁÀ¸·Î ¼¼Æ÷·À¯ÀüÀÚÄ¡·áÁ¦ Æ¯È CDMO »ç¾÷À» Àü°³ÇÏ°í ÀÖ´Ù. CDMO´Â °í°´»ç°¡ ¿äûÇÑ ÀǾàÇ° ±Ô°Ý¿¡ µû¸¥ À§Å¹»ý»ê(CMO)¿¡ °³¹ß(Develop)ÀÇ °³³äÀ» ´õÇÑ °ÍÀ¸·Î, ¡â»ý»ê°øÁ¤ ÃÖÀûÈ ¡âÇ°Áú½ÃÇè ÃÖÀûÈ ¡âCMC(Chemistry Manufacturing Control) µî ½Å¾à °³¹ß °úÁ¤ Àü¹ÝÀ» Ã¥ÀÓÁø´Ù.
ƯÈ÷ ¼¼Æ÷ ¹× À¯ÀüÀÚÄ¡·áÁ¦ »ý»ê, ÀÎÇã°¡ °úÁ¤À» °ÞÀ¸¸ç ½×¾Æ¿Â ±â¼ú ¹× ³ëÇÏ¿ì·Î °í°´»ç°¡ ºü¸£°Ô ÀÓ»ó ´Ü°è¿¡ ÁøÀÔÇÒ ¼ö ÀÖµµ·Ï Áö¿øÇÏ°í, ÃֽŠ±ÔÁ¦³ª ȯ°æ º¯È µî ´Ù¾çÇÑ ¹®Á¦¿¡ ´ëÇÑ ¼Ö·ç¼ÇÀ» Á¦°øÇÑ´Ù. ÀÌ¿£¼¿ÀÇ ÁÖ¿ä °í°´»ç´Â GMP ½Ã¼³ÀÌ ¾ø´Â Á¦¾à»ç, ¹ÙÀÌ¿Àº¥Ã³, ±¹°ø¸³ ¿¬±¸¼Ò ¹× ´ëÇÐ µîÀ̸ç, ÇöÀç 17°³»ç¿Í 33°ÇÀÇ ÇÁ·ÎÁ§Æ®¸¦ ÁøÇàÇØ 2023³â ¸ÅÃâ 105¾ï¿øÀ» ´Þ¼ºÇÏ´Â µî ±¹³» ¼¼Æ÷·À¯ÀüÀÚÄ¡·áÁ¦ CDMO ±â¾÷ Áß ÃÖ´Ù ½ÇÀûÀ» º¸À¯ÇÑ °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³´Ù.
ÀÌ¿£¼¿Àº ¼¼Æ÷·À¯ÀüÀÚÄ¡·áÁ¦ ºÐ¾ß ½Å¾à °³¹ß¿¡µµ ÁýÁßÇÏ°í ÀÖ´Ù. Â÷¼¼´ë Áß°£¿± Áٱ⼼Æ÷ Ä¡·áÁ¦ EN001Àº ÅÈÁÙ À¯·¡ Áß°£¿± Áٱ⼼Æ÷(MSC)¸¦ ±â¹ÝÀ¸·Î ÇÏ´Â ±ÙÀ°Áúȯ Ä¡·áÁ¦´Ù. ÇöÀç »þ¸£ÄÚ-¸¶¸®-Åõ½ºº´(CMT), µÚ¼¾ ±ÙÀ§ÃàÁõ(DMD)À» ÀûÀÀÁõÀ¸·Î ÀÓ»ó½ÃÇèÀ» ÁøÇà ÁßÀ̸ç, 2022³â ½ÄÇ°ÀǾàÇ°¾ÈÀüó °³¹ß´Ü°è Èñ±ÍÀǾàÇ°(ODD)À¸·Î ÁöÁ¤µÆ´Ù.
ÀåÁ¾¿í ÀÌ¿£¼¿ ´ëÇ¥ÀÌ»ç´Â “¼¼Æ÷·À¯ÀüÀÚÄ¡·áÁ¦ CDMO »ê¾÷Àº Á¦Á¶ ¹æ¹ýÀÌ ´Ù¾çÇØ Ç¥ÁØÈ°¡ ¾î·Æ°í °ü·Ã ±ÔÁ¦¸¦ ¸¶·Ã ÁßÀÎ ¸¸Å ±¹°¡Àû °ü½Éµµ°¡ ¸Å¿ì ³ôÀº ½Å¼ºÀå »ê¾÷”À̶ó¸ç “±¹³» CDMO ¼ºñ½º »ç¾÷ÀÚ Áß ÃÖ´Ù ¼öÇà ½ÇÀûÀ» º¸À¯ÇÑ ÀÌ¿£¼¿Àº À̹ø ÄÚ½º´Ú »óÀåÀ» ¹ßÆÇ »ï¾Æ ±Û·Î¹ú ¼¼Æ÷·À¯ÀüÀÚÄ¡·áÁ¦ CDMO ½ÃÀåÀ̶ó´Â ºí·ç¿À¼ÇÀ» ÇâÇØ ³ª¾Æ°¡°Ú´Ù”´Â Æ÷ºÎ¸¦ ÀüÇß´Ù. |