반도체, 평판 디스플레이 및 태양전지 장비 글로벌 업체인 어플라이드머티어리얼즈는 프랑스 파리에서 개최되는 제 28회 유럽 태양 에너지 박람회(European Solar Energy Conference and Exhibition, EU PVSEC)에서 차세대 어플라이드 솔리온 XP 이온 주입 시스템(Applied Solion® XP Ion Implant System)을 공개한다고 금일 밝혔다.

솔리온 XP 이온 주입 시스템이 수행하는 인시츄(in-situ) 패턴 도핑(dopping)은 수율을 감소시키는 여러 공정을 제거하여 이례적으로 높은 수율과 비용 절감을 실현시킴으로써 고효율 결정질 실리콘 셀 양산을 가능하게 하는 공정이다. 태양전지 산업을 선도하는 어플라이드머티어리얼즈의 기술력에 기반한 솔리온 XP 이온 주입 시스템은 고유의 정밀한 스캐닝(scanning) 구조와 확장성 있는 설계로 가동시간과 정밀성을 높여 시간당 3천 개 이상의 웨이퍼를 처리할 수 있게 함으로써 웨이퍼당 소요비용을 큰 폭으로 감소시킨다.

어플라이드머티어리얼즈의 에너지 및 환경 솔루션 그룹(Energy and Environmental Solutions Group)에서 태양광 제품 부문을 총괄하는 짐 멀린(Jim Mulin) 부사장은 “솔리온 XP 이온 주입 시스템은 기존의 셀 및 모듈 제조 시 소요비용과 동일하거나 더 낮은 비용으로 22% 이상의 셀 효율성을 낼 수 있게 하는 태양전지 제조를 위해 특별히 설계된 다세대 기술 확장으로 볼 수 있다.”라고 설명하며, “어플라이드머티어리얼즈는 수율, 비닝(binning), 셀 성능, 비용 등 제조상의 주요 과제들을 해결할 수 있는 솔루션 개발을 위해 선두 제조업체들과 긴밀하게 협력해 왔다. 솔리온 XP 이온 주입 시스템의 구조적 장점은 2차원 정밀 패터닝(patterning) 및 N형 셀 공정의 높은 생산성과 확장성을 가능하게 하여 고객들이 비용효율적인 태양광 발전에 대한 늘어나는 시장의 수요를 충족시킬 수 있도록 한 것”이라 덧붙였다.

최근 제조업체들은 셀 효율성 및 모듈 전원 출력을 향상시키고 차별화된 제품과 전반적인 와트당 비용에서의 경쟁 우위 달성을 위한 에너지를 창출하고자 기존에 사용하던 P형 태양전지 셀을 N형으로 전환하고 있다. N형 셀의 대량 생산에는 정밀 패터닝을 비롯해 고품질 붕소(boron)를 도핑함으로써 공정 단계를 제거하고 제조를 단순화하는 등의 최첨단 기술이 필수적이다. 솔리온 XP 이온 주입 시스템의 인시츄(in-situ) 패터닝 기술은 최첨단 구조 셀의 N형 기판에 주입하는 불순물(dopant)의 깊이와 양, 인(phosphorous)과 붕소의 위치를 정밀하게 제어함으로써 고효율 활성화와 낮은 열처리량을 구현한다.

강화된 패터닝 기능 및 향상된 시스템 처리량과 더불어 폐루프 제어 기능이 적용된 솔리온 XP 이온 주입 시스템의 다중 패스 수직 스캐닝(multiple pass vertical scanning) 구조는 향상된 비닝과 수율을 위한 웨이퍼 간 반복성을 실현한다. 30년 이상 동안 검증되어 온 어플라이드머티어리얼즈의 주입(implant) 전문성이 반영된 이 고유 기술은 고품질 생산 제조의 과제를 해결할 수 있다. 앞서 2011년 출시한 솔리온 플랫폼은 수백만 개의 셀을 처리하기 위한 전체 생산 공정에 사용되는 20개 이상의 시스템과 함께 전 세계를 선도하는 태양전지 셀 및 모듈 제조업체들 사이에서 호평을 얻고 있다. 솔리온 XP 이온 주입 시스템은 제조업체가 고품질, 고효율 태양전지 모듈을 제조할 수 있도록 돕는 비용 효율적인 솔루션이다.

어플라이드머티어리얼즈는 최첨단 반도체, 평판 디스플레이, 태양전지 등의 제조를 위한 혁신 장비, 서비스 및 소프트웨어를 제공하는 세계적 선두 기업이다. 어플라이드머티어리얼즈의 기술은 스마트폰, 평면 스크린 TV, 태양광 패널과 같은 첨단 제품의 가격 경쟁력 및 접근성을 높이는 데 적용되며, 전 세계 기업과 소비자들에게 혜택을 주고 있다. 어플라이드머티어리얼즈에 대한 보다 자세한 정보는 www.appliedmaterials.com 에서 확인 가능하다.