반도체 공정 제어용 ‘In-situ’ (기존의 인라인 모니터링에서 벗어난 즉각적인 상황에서의 모니터링) 실시간 고감도 계측의 선두 주자인 Atonarp이 자사의 ‘Aston’ 플랫폼 판매를 시작했다. 이로써 Atonarp은 이 플랫폼의 전 세계적인 상업화에 중요한 이정표를 세우게 되었다.

Aston은 10억 분의 1당 분자 농도를 측정하는 민감성을 갖춘 공정 화학에 대해 정확한 실시간 데이터를 제공하는 컴팩트한 질량 분광계이다. 반도체를 생산하는 팹에서는 이 데이터를 통해 보다 효율적으로 라인을 가동해 수율과 처리량을 향상시키게 되므로 원가 절감 효과를 상당히 기대할 수 있다.

Atonarp은 한국과 미국의 선도적인 반도체 팹과 장비 제조업체에 Aston 임팩트를 선적했다. Atonarp은 또한 고급 공정에서 반도체 제조의 효율성을 최적화하려는 고객들의 평가를 위해 수십 대의 Aston을 글로벌 고객들에게 배송 중이다.

Atonarp의 제품 마케팅 부사장인 마틴 메이슨(Martin Mason)은 "분자 수준에서 실행 가능한 공정 제어 데이터를 신속하게 감지, 정량화 및 제공하는 능력은 첨단 반도체 제조 공정에서 매우 중요하다”며 "처리량이 1% 증가하더라도 기존의 팹 라인에서는 연간 수천만 달러의 생산량을 늘릴 수 있다. Aston은 감도가 좋으면서도 신속한 처리를 통해 분자 수준 공정 제어 효율을 높여주는 분야에서 탁월한 성능을 제공한다"고 설명했다.

반도체 생산의 중요한 부분인 계측 분야에서 여러 가스들의 농도는 생산 장비 내에서 폐기물을 최소화하면서 공정 마진을 충족하도록 측정된다. 기존의 솔루션들은 광학 방출 분광법 및 잔류 가스 분석기에 의존해 왔지만 이러한 구태의연한 방법은 오늘날의 고급 메모리 및 로직 프로세스에 필요한 속도와 감도를 제공할 수 없었다. 그러나 동급 최강의 센서를 부착한 Aston은 혁신적인 질량 분광법 기술을 사용해 부식성 가스 및 응축수 저항에 필요한 견고성을 갖춘 빠른 결과를 우수한 감도로 제공한다.

Aston은 원자 수준 증착(ALD) 및 하위 팹 작업과 같은 고급 반도체 응용 분야에 실행 가능한 데이터를 제공한다. Aston은 10억 평방 루트당 9개 미만의 헤르츠(9ppb√Hz)의 부분에서 데이터를 수집할 수 있는 속도를 유지하면서도 경쟁업체의 솔루션보다 최대 10배 더 향상된 감도를 유지한다.

Atonarp은 반도체 생산 분야의 새로운 응용 분야에 대한 Aston 플랫폼 개발 및 업그레이드를 위해 다양한 업체들과 협력 관계를 유지하고 있다. 이를 바탕으로 석유, 가스 분야를 비롯해 동결 건조 공정 제어와 같이 실시간으로 가스 분석을 정밀하게 해야 하는 응용 분야로의 진출을 진행 중이다.

Aston은 EMI/EMC 준수를 위해 EN55032(EU), EN 55035(EU), FCC 15부(미국), ICES-003(캐나다), VCCI CISPR-32(일본), BSMI(대만), KC EMC(한국)를 등 여러 인증 및 자격을 획득했다. Aston은 이러한 인증 작업을 통해 현재 전 세계의 고객들에게 대량 납품 중이다.

한편 Atonarp은 ATIK와의 제휴를 통해 CVD, 공간 ALD 및 서브 Fab 애플리케이션을 위한 통합 솔루션을 국내 고객들에게 제공한다.